Елемент | Технічна власність | ||
Чистий кисень | Кисень високої чистоти | Ультрачистий кисень | |
Кисень (O2) чистота (об'ємна частка)/10-2≥ | 99,995 | 99,999 | 99,9999 |
Водень (H2) вміст (об'ємна частка)/10-6≤ | 1 | 0,5 | 0,1 |
Вміст аргону (Ar) (об'ємна частка)/10-6≤ | 10 | 2 | 0,2 |
Азот (N2) вміст (об'ємна частка)/10-6≤ | 20 | 5 | 0,1 |
Вуглекислий газ (CO2) вміст (об'ємна частка)/10-6≤ | 1 | 0,5 | 0,1 |
Загальний вміст вуглеводнів (об'ємна частка) (розраховано за метаном)/10-6≤ | 2 | 0,5 | 0,1 |
Вода (H2O) вміст (об'ємна частка)/10-6≤ | 3 | 2 | 0,5 |
Галузь застосування: використовується переважно для приготування стандартної газової суміші, наукових досліджень, виробництва інтегральних схем та напівпровідникових приладів, а також в інших галузях з високими вимогами до чистоти кисню.