
| Элемент | Техническая собственность | ||
| Ксенон высокой чистоты ГБ/Т5828-2006 | Сверхчистый ксенон | ||
| Чистота ксенона (Xe) (объемная доля)/10-2≥ | 99.999 | 99.9995 | 99.9999 |
| Азот (N2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0,2 |
| Кислород (O2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 1,5(О2+Ар) | 0,5(О2+Ар) | 0.1 |
| Содержание аргона (Ar) (объемная доля)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Водород (H2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Содержание оксида углерода (СО) (объемная доля)/10-6≤ | 0,2 | 0.1 | 0,05(CO+CO2) |
| Содержание диоксида углерода (CO2) (объемная доля)/10-6≤ | 0,3 | 0.1 | |
| Метан (CH4) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,3 | 0.1 | 0,05 |
| Вода (Н2O) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Содержание криптона (Kr) (объемная доля)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Закись азота (N2O) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,2 | 0.1 | 0,05 |
| Фторид (С2F6) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,5 | 0.1 | 0,05 |
| Фторид (SF6) содержание (объемная доля)/10-6≤ | Н/Д | Н/Д | 0,05 |
Области применения: в основном используется в полупроводниковой промышленности, аэрокосмической промышленности, производстве источников электрического света, медицине, электровакууме, исследовании темной материи, лазерной технике и других областях.