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Xénon de haute pureté et xénon ultra-pur (Xe : 5N, 5,5N, 6N)
| Article | Propriété technique | ||
| Xénon de haute pureté GB/T5828-2006 | Xénon ultrapur | ||
| Pureté du xénon (Xe) (fraction volumique)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Azote (N2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 2,5 | 1,5 | 0,2 |
| Oxygène (O2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 1,5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Teneur en argon (Ar) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Hydrogène (H2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Teneur en monoxyde de carbone (CO) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05(CO+CO2) |
| Teneur en dioxyde de carbone (CO2) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | |
| Méthane (CH4) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Eau (H2Teneur en O) (fraction volumique)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Teneur en krypton (Kr) (fraction volumique)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Protoxyde d'azote (N2Teneur en O) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 |
| Fluorure (C2F6) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,5 | 0,1 | 0,05 |
| Fluorure (SF6) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | N / A | N / A | 0,05 |
Domaines d'application : principalement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, l'aérospatiale, l'industrie des sources de lumière électrique, le traitement médical, le vide électrique, la recherche sur la matière noire, le laser et d'autres domaines
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