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Gaz argon pour l'industrie électronique (Ar)
| Article | Propriété technique | |
| Pureté de l'argon (Ar) (fraction volumique)/10-2≥ | 99,9999 | 99,9992 |
| Hydrogène (H2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,1 | 1 |
| Azote (N2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,5 | 5 |
| Oxygène (O2) teneur (fraction volumique)/10-6≤ | 0,2 | 0,5 |
| Teneur totale en monoxyde de carbone (CO) et en dioxyde de carbone (CO2), (fraction volumique)/10-6≤ | Monoxyde de carbone : 0,1 Dioxyde de carbone : 0,1 | 0,5 |
| Teneur totale en hydrocarbures (calculée à partir du méthane) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,1 | 0,5 |
| Eau (H2Teneur en O) (fraction volumique)/10-6≤ | 0,2 | 0,5 |
| Teneur totale en impuretés (fraction volumique)/10-6≤ | 1 | 8 |
| Grain | Convenu par le fournisseur et le demandeur | Convenu par le fournisseur et le demandeur |
| Remarque : La teneur en eau de l'argon liquide doit être mesurée après gazéification | ||
Domaine d'application : principalement utilisé pour la purge, la protection et la pressurisation des systèmes. Il peut également être utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur, la pulvérisation cathodique, la gravure plasma et ionique active, le recuit et d'autres procédés, ainsi que pour les mélanges de gaz spéciaux électroniques.
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