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Xenón de alta pureza y xenón ultrapuro (Xe: 5N, 5,5N, 6N)
| Artículo | Propiedad técnica | ||
| Xenón de alta pureza GB/T5828-2006 | Xenón ultrapuro | ||
| Pureza del xenón (Xe) (fracción de volumen)/10-2≥ | 99.999 | 99.9995 | 99.9999 |
| Nitrógeno (N2) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0.2 |
| Oxígeno (O2) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 1.5(O2+Ar) | 0.5(O2+Ar) | 0.1 |
| Contenido de argón (Ar) (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.05 | ||
| Hidrógeno (H2) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.5 | 0.5 | 0.05 |
| Contenido de monóxido de carbono (CO) (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.2 | 0.1 | 0,05(CO+CO2) |
| Contenido de dióxido de carbono (CO2) (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | |
| Metano (CH4) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | 0.05 |
| Agua (H2O) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Contenido de criptón (Kr) (fracción de volumen)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Óxido nitroso (N2O) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.2 | 0.1 | 0.05 |
| Fluoruro (C2F6) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | 0.5 | 0.1 | 0.05 |
| Fluoruro (SF6) contenido (fracción de volumen)/10-6≤ | N / A | N / A | 0.05 |
Campos de aplicación: se utiliza principalmente en la industria de semiconductores, aeroespacial, industria de fuentes de luz eléctrica, tratamiento médico, vacío eléctrico, investigación de materia oscura, láser y otros campos.
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