Είδος | Τεχνική Ιδιοκτησία | ||
Ξένον υψηλής καθαρότητας GB/T5828-2006 | Υπερκαθαρό ξένον | ||
Καθαρότητα ξένου (Xe) (κλάσμα όγκου)/10-2≥ | 99.999 | 99,9995 | 99,9999 |
Άζωτο (Ν2) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0,2 |
Οξυγόνο (O2) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 1,5 (Ο2+Αργ) | 0,5 (Ο2+Αργ) | 0,1 |
Περιεκτικότητα σε αργό (Ar) (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,05 | ||
Υδρογόνο (H2) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
Περιεκτικότητα σε μονοξείδιο του άνθρακα (CO) (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 (CO2+CO22) |
Περιεκτικότητα σε διοξείδιο του άνθρακα (CO2) (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | |
Μεθάνιο (CH4) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
Νερό (H2O) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
Περιεκτικότητα σε κρυπτόν (Kr) (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
Υποξείδιο του αζώτου (Ν2O) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 |
Φθόριο (C2F6) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | 0,5 | 0,1 | 0,05 |
Φθόριο (SF6) περιεχόμενο (κλάσμα όγκου)/10-6≤ | Δ/Υ | Δ/Υ | 0,05 |
Τομείς εφαρμογής: χρησιμοποιείται κυρίως στη βιομηχανία ημιαγωγών, την αεροδιαστημική, τη βιομηχανία ηλεκτρικών πηγών φωτός, την ιατρική περίθαλψη, το ηλεκτρικό κενό, την έρευνα για τη σκοτεινή ύλη, το λέιζερ και άλλους τομείς