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Hochreines Xenon und ultrareines Xenon (Xe: 5N, 5,5N, 6N)
| Artikel | Technische Eigenschaften | ||
| Hochreines Xenon GB/T5828-2006 | Ultrareines Xenon | ||
| Xenon (Xe) Reinheit (Volumenanteil)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Stickstoff (N2) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 2.5 | 1,5 | 0,2 |
| Sauerstoff (O2) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 1,5 (O2+Ar) | 0,5 (O2+Ar) | 0,1 |
| Argon (Ar)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Wasserstoff (H2) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Kohlenmonoxid (CO)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 (CO + CO2) |
| Kohlendioxid (CO2)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | |
| Methan (CH4) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Wasser (H2O)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Krypton (Kr)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Lachgas (N2O)-Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 |
| Fluorid (C2F6) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | 0,5 | 0,1 | 0,05 |
| Fluorid (SF6) Gehalt (Volumenanteil)/10-6≤ | N / A | N / A | 0,05 |
Anwendungsbereiche: hauptsächlich in der Halbleiterindustrie, der Luft- und Raumfahrt, der elektrischen Lichtquellenindustrie, der medizinischen Behandlung, dem elektrischen Vakuum, der Dunkle-Materie-Forschung, Lasern und anderen Bereichen verwendet
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